惠特尼美國藝術博物館(Whitney Museum of American Art)宣布了2010年惠特尼雙年展參展藝術家名單，Nina Berman、James Casebere、Ari Marcopoulos、Stephanie Sinclair四位攝影師作品入選。這也是第二次James Casebere和Ari Marcopoulos同時入選惠特尼雙年展。

惠特尼雙年展是北美地區(qū)最受重視的藝術展覽之一，參展作品包括錄像，繪畫，素描，裝置，建筑，攝影，表演等各種形式。本屆策展人為意大利獨立策展人Francesco Bonami以及惠特尼高級策展助理Gary Carrion-Murayari，在經(jīng)濟不景氣的情況下，規(guī)模與往屆相比明顯縮小，下降至55位，并且每位藝術家只展出一件作品，將于明年2月25日至5月39日在惠特尼藝術博物館舉辦。本文為《中國攝影》網(wǎng)站原創(chuàng)文章，轉載時請注明出處并給出鏈接。

除了上面提到的攝影師以外，本次參展藝術家中與攝影相關的還包括以物影攝影技法進行創(chuàng)作的藝術家Josh Brand，和拼貼藝術家Curtis Mann，制片人Babette Mangoite，混合媒體藝術家Josephine Meckseper等人。

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